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日立高新磁控溅射器MC1000

日立高新磁控溅射器MC1000

更新时间:2020-08-13

厂商性质:代理商

浏览量:84

产品报价:

产品特点:日立高新磁控溅射器MC1000采用了电磁管电极,能够最大限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。

详细资料
品牌其他品牌价格区间面议
产地类别进口应用领域医疗卫生,环保,化工,能源,电子

日立高新磁控溅射器MC1000采用了电磁管电极,能够最大限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。
日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品直径:60 mm
日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品高度:20 mm
 

日立高新磁控溅射器MC1000特点:
采用LCD触摸屏,可以更加简便地设定加工条件
可处理较厚或较大的样品(选配件)
记忆功能可存储常用加工条件

规格:

项目说明
放电类型磁控二极管放电型(电场垂直于磁场)
电极组成反向平行盘(嵌入磁铁)
电压最大0.4Kv DC(直流可变)
电流最大40mA DC

喷镀速率(最大)[条件]

压力:7Pa

放电电流:40mA

标靶与样品表面之间的距离:20mm

Pt靶(选配件)15nm/min
Pt-Pd靶(选配件)20nm/min
Au靶(选配件)35nm/min
Au-Pd靶(选配件)25nm/min
样品尺寸最大直径Ф60mm
最大高度20mm
机械泵135/162 L/min(50/60Hz)
靶材﹡²Pt, Pt-Pd (8: 2), Au, Au-Pd(6: 4)
电源要求单相,100VAC(±10%)15A(50/60Hz)3-针插头线缆(3m)
尺寸宽度450mm
长度391mm
高度390mm
重量主机:约25Kg 机械泵:约28kg

﹡¹:喷镀速率仅供参考

﹡²:主机内不包括靶材。请从选项中选择(鉑,铂-钯,金,金-钯)

 

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