• 日立高新离子研磨装置IM4000
    日立高新离子研磨装置IM4000

    日立高新离子研磨装置IM4000具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器!其高通量能提高加工效率:与之前的E-3500型相比,采用新型离子枪设计,减少了横截面研磨时间。(最大加工率:硅元素为300微米/小时--加工时间减少了66%。

    更新时间:2020-08-13浏览量:151
  • 日立高新磁控溅射器MC1000
    日立高新磁控溅射器MC1000

    日立高新磁控溅射器MC1000采用了电磁管电极,能够最大限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。

    更新时间:2020-08-13浏览量:87
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