日立高新离子研磨装置IM4000具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器！其高通量能提高加工效率：与之前的E-3500型相比，采用新型离子枪设计，减少了横截面研磨时间。（大加工率：硅元素为300微米/小时--加工时间减少了66%。

日立高新磁控溅射器MC1000采用了电磁管电极，能够大限度地减轻对样品的损坏，并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。